全自動(dòng)晶圓腐蝕機(jī)（多晶硅腐蝕機(jī)浸泡 式腐蝕清洗 電子清洗設(shè)備）
概述：全自動(dòng)晶圓腐蝕機(jī)（多晶硅腐蝕機(jī)浸泡 式腐蝕清洗 電子清洗設(shè)備） 用于晶圓片的清洗；適用于單片6″8″12″晶圓片。可能采用兆聲波清洗（MHz級(jí)超聲）增強(qiáng)效率，尤其擅長清除頑固顆粒和有機(jī)物；高壓噴淋與化
賬戶：
刷新時(shí)間：
2025-09-10 17:54:55 點(diǎn)擊161次
服務(wù)區(qū)域：
北京/大興/北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)
聯(lián)系電話：
13911568117
王經(jīng)理
QQ：
190888756 
全自動(dòng)晶圓腐蝕機(jī)（多晶硅腐蝕機(jī)浸泡 式腐蝕清洗 電子清洗設(shè)備）
用于晶圓片的清洗；適用于單片6″8″12″晶圓片。可能采用兆聲波清洗（MHz級(jí)超聲）增強(qiáng)效率，尤其擅長清除頑固顆粒和有機(jī)物；高壓噴淋與化學(xué)濕法腐蝕協(xié)同作用，高效去除污染物且避免硅片損傷。
機(jī)械臂走向右進(jìn)左出’或‘左進(jìn)右出’；制程控制為PLC控制方式；操作界面為全圖形化中文彩色人機(jī)界面（10.4彩屏）；槽體數(shù)量根據(jù)制程工藝要求選擇定制；設(shè)備制造北京華林嘉業(yè)科技有限公司（CGB）；
[本信息來自于今日推薦網(wǎng)]
用于晶圓片的清洗；適用于單片6″8″12″晶圓片。可能采用兆聲波清洗（MHz級(jí)超聲）增強(qiáng)效率，尤其擅長清除頑固顆粒和有機(jī)物；高壓噴淋與化學(xué)濕法腐蝕協(xié)同作用，高效去除污染物且避免硅片損傷。
機(jī)械臂走向右進(jìn)左出’或‘左進(jìn)右出’；制程控制為PLC控制方式；操作界面為全圖形化中文彩色人機(jī)界面（10.4彩屏）；槽體數(shù)量根據(jù)制程工藝要求選擇定制；設(shè)備制造北京華林嘉業(yè)科技有限公司（CGB）；
[本信息來自于今日推薦網(wǎng)]
- hualinjiaye發(fā)布的信息
- 全自動(dòng)高溫蝕刻臺(tái)（半導(dǎo)體晶圓）
- 全自動(dòng)高溫蝕刻臺(tái) 本機(jī)臺(tái)為雷射正切之后，去除焦碳的必要制程設(shè)備；另可進(jìn)行表面粗化、LBR及 PSS作業(yè)，切中各LED晶粒廠極欲提升產(chǎn)品亮度的需求；適用對(duì)象為2-6inch藍(lán)寶石晶片；25 Pcs/cassette，1 casset...
- 藍(lán)寶石晶體回料高溫蝕刻清洗臺(tái)
- 藍(lán)寶石晶體回料高溫蝕刻清洗臺(tái) 機(jī)臺(tái)位于長晶后處理廠房內(nèi)（室內(nèi)放置型）進(jìn)料端為十萬級(jí)；出料端為千級(jí)，其主要功能是對(duì)破碎后的晶體進(jìn)行表面清洗;適用對(duì)象為形狀不規(guī)則塊料，塊料:60mm*60mm*60mm(L*W*H)，...
- 硅片清洗機(jī)
- 硅片清洗機(jī)：可提供從研磨到最終清洗的全流程清洗工藝非標(biāo)設(shè)備定制（研磨后清洗：去除研磨磨粒，主要使用堿和界面清洗劑。堿性蝕刻清洗：去除研磨后的加工變形。前熱處理清洗：在RCA清洗工藝基礎(chǔ)上，調(diào)整工...
- 晶圓單片清洗機(jī)
- 晶圓單片清洗機(jī) 用于晶圓片的清洗；適用于單片6″8″12″晶圓片。在半導(dǎo)體制造流程中，單片晶圓清洗機(jī)是確保芯片良率與性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。機(jī)臺(tái)通過物理沖擊、化學(xué)腐蝕和表面改性等多維度手段，去除晶圓表面...
- 蝕刻清洗臺(tái)（硅片晶圓襯底外延片清洗）
- 蝕刻清洗臺(tái)（硅片晶圓襯底外延片清洗） 適用產(chǎn)業(yè)為半導(dǎo)體照明（LED）--襯底工藝段、PSS工藝段、外延工藝段 、芯片工藝段；手動(dòng)、自動(dòng)控制模式；適用于藍(lán)寶石晶片2-8inch25 Pcs/cassette數(shù)量1 cassette/ ...
- 晶圓酸堿腐蝕機(jī)
- 酸堿腐蝕機(jī) 1.適用對(duì)象： 硅晶片2-12inch 25 Pcs/cassette，藍(lán)寶石晶片 2-8inch25 Pcs/cassette，砷化鎵晶片2-6inch 25 Pcs/cassette，碳化硅晶片2-8inch 25 Pcs/cassette 2.設(shè)備用途：用來將4、5、6英...
