鋁合金靶材廠家直銷
概述：適用于直流二極濺射、三極濺射、四級濺射、射頻濺射、對向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等，可鍍制反光膜、導電膜、半導體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護膜、集成電路、顯示器等，相對其它靶材，鋁靶材的
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鋁靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加工后的產品，具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料，安裝在真空鍍膜機上，濺射成膜。
鋁靶材物理性質：
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元素符號 |
Al靶材 |
元素符號 |
Al靶材 |
|
相對分子質量 |
26.98 |
蒸發潛熱 |
11.4 |
|
原子體積 |
9.996*10-6 |
蒸汽壓 |
660/10-8-10-9 |
|
晶型 |
Fcc面心立方 |
電導率 |
37.67 |
|
堆積密度 |
74% |
電阻系數 |
+0.115 |
|
配位數 |
12 |
吸收光譜 |
0.20*10-24 |
|
晶格能 |
200*10-7 |
泊松比 |
0.35 |
|
密度 |
2.7 |
可壓縮性 |
13.3mm2/MN |
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彈性模量 |
66.6Gpa |
熔點 |
660.2 |
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剪切模量 |
25.5Gpa |
沸點 |
約2500 |
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常用純度 |
99.9%3N，99.99%4N，99.999%5N，99.9999%6N |
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鋁靶用途：適用于直流二極濺射、三極濺射、四級濺射、射頻濺射、對向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等，可鍍制反光膜、導電膜、半導體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護膜、集成電路、顯示器等，相對其它靶材，鋁靶材的價格較低，所以鋁靶材是在能滿足膜層的功能前提下的首選靶材料。
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