頂立科技立式化學氣相沉積爐（沉積炭）

概述：立式化學氣相沉積爐（沉積炭）可用于以碳氫氣體（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理
本信息已過期，發(fā)布者可在"已發(fā)商機"里點擊"重發(fā)"。

賬戶：

刷新時間：

2022-11-07 16:43:11 點擊64402次

分類：

服務(wù)區(qū)域：

全國

聯(lián)系電話：

18874256050

信用：4.0 隱性收費：4.0

描述：4.0 產(chǎn)品質(zhì)量：4.0

物流：4.0 服務(wù)態(tài)度：4.0

默認4分我要打分

立式化學氣相沉積爐（沉積炭）技術(shù)特征

根據(jù)爐膛尺寸與結(jié)構(gòu)設(shè)置溫區(qū)，溫度均勻性好;

采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強；

采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；

對炭沉積過程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效的處理

立式化學氣相沉積爐（沉積炭）產(chǎn)品規(guī)格

以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進行調(diào)整，不作為驗收依據(jù)，具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準。

hndlkj發(fā)布的信息
頂立科技高真空燒結(jié)爐,燒結(jié)爐廠家,真空爐
高真空燒結(jié)爐主要用于鎢合金、磁性材料、高比重合金、鉬合金和硬質(zhì)合金等制品的燒結(jié)及陶瓷氧化鋯發(fā)黑等。...
頂立科技壓力熔滲爐,燒結(jié)爐,壓力爐
壓力熔滲爐（1MPa，2MPa）產(chǎn)品規(guī)格參數(shù)/型號 PSF-040408 PSF-050513 工作區(qū)尺寸 W×H×L（mm） 400×400×8...
頂立科技臥式化學氣相沉積爐（沉積炭）
化學氣相沉積爐（沉積炭）可用于以碳氫氣體（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。...
頂立科技臥式化學氣相沉積爐（碳化硅）
該化學氣相沉積爐（碳化硅）可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層、基體改性等。...
頂立科技立式化學氣相沉積爐（碳化硅）
立式化學氣相沉積爐可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層、基體改性等。...
頂立科技臥式真空碳化爐,真空爐,碳化爐
真空碳化爐主要用于炭/炭復合材料、碳纖維保溫材料、高導熱石墨膜的高溫碳化處理。...